Курсовая работа: Фізико-технологічні основи одержання чутливих елементів для датчиків газів
Цікава
конструкція
на базі In2O3
наношару
(отримано з
допомогою
МПЕ) високочутлитвого
(~40 ppb – 40 частинок
на мільярд)
детектору
озону
представлена
в [14] (Рис.31-32).
Автори інтегрували
активний шар
In2O3 з синім LED
(light emitted diode)-
високоінтенсивний
діод (Рис. 32), випромінювання
якого
активує
оксидний шар.
|
|
Рис.31.
Відношення
опору шару In2O3
при
наявності озону
до опору при
освітленні
ультрафіолетовим
випромінюванням
діодом, в
залежності
від енергії
фотону та
від
концентрації
озону. [14]
|
Рис.32.
Схематичний
переріз та фотографія
детектору
озону з
ультрафіолетовим
активаторним
GaInN
LED на
квантових
ямах. [14]
|
В [15]
показано, що
в якості
детектора
водню є можливість
використання
резистивного
шару на
основі
силікату
вуглецю (SiC). Для
цього на
поверхню Si (001) n-
типу
нанесено
епітаксіальну
4 мкм плівку 3C- SiC
(газофазна
епітаксія) з NiCr
омічними
контактами
(Рис. 33).
Детекцію
водню проведено
в суміші з Ar.
Показано, що
поріг чутливості
датчику є на
рівні 0.33% H2.
Також
показано, що
датчик з 3C- SiC/Si є
більш чутливий
порівняно з
простим
датчиком Si (001) n-
типу (Рис. 34). В
праці є
сумніви, чи
відбувається
адсорбція
молекул H2 до
поверхні
напівпровідника,
чи відбувається
дисоціація H2
і в
подальшому
атомарний
водень
проникає до
контакту
метал-напівпровідник
[15].
|
|
Рис.33.
Схематичне
зображення
детектору
водню з
резистивним
шаром 3C–SiC на n-type Si(001).
На
часовій
залежності
зображено
зміну вмісту
водню в
аргоні з
кроком 10% (від 0
до 100%). Пунктирна
лінія
представляє
детекцію
без, суцільна
з шаром 3C–SiC.
Температура
детекції 50 оС.
[15]
|
Рис.34.
Детекція
водню при 50 оС
(без і з шаром
3C–SiC). Покрокове
зростання
та
зменшення на
10 %
концентрації
водню в
аргоні-
показує оборотність
процесу
адсорбції
водню. [15]
|
Страницы: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18 |