Курсовая работа: Фізико-технологічні основи одержання чутливих елементів для датчиків газів
В [11]
показано
значний ріст
чутливості
датчика на
базі діода
Шоттки з GaN
структурою
(GaN/AlGaN структура
отримана
методом MOCVD)
(Рис.) при
рості
температури
детектування
з 200 до 800 оС. Цей
зріст
обумовлений
пониженням
барєру
Шоттки на 11-120 meV (Рис.25)[11]
|
|
|
Рис.23.
Переріз
ітруктури Pt–AlGaN/GaN
Шоттки
діодного
газового
детектора. [11] |
Рис.24.
Залежність
ВАХ
характеристики
Pt-AlGaN/GaN Шоттки
діода при 0 та 5%
концентраціях
водню в
азоті, при 200 та
800 оС. [11]
|
Рис.25.
Залежність
висоти
барєру
Шоттки в Pt-
AlGaN/GaN
діоді в N2 та 5% H2/95% N2
як функція
температури.
[11]
|
Значно
чутливішу (1% H2)
структуру на
основі GaN/AlGaN
структури
отримали
(ріст
структури
здійснили
МПЕ) при
використанні
двох діодів
Шоткі, в
одному з яких
один має Pt,
другий -Ti/Au контакт
(Рис. 24-26) [12]. Ti/Au покриття
забезпечує
непроникнення
водню до шару
напівпровідника,
а це в свою
чергу дає
можливість
здійснювати
диференціальне
(порівняльне)
вимірювання
обох діодів,
що значно
підвищує
чутливість
датчика [12].
|
|
|
Рис.26.
Мікрофотографія
диференціальних
діодів
детектора
газу.Активний
діод виконаний
з 10 nm Pt
електродом,
а
порівняльний
з Ti/Au електродом.
[12] |
Рис.27.
Абсолютні
та
порівняльні
струми в HEMT
діодах
виміряні
при 25°C. [12] |
Рис.
28. Абсолютні
та
порівняльні
струми в HEMT
діодах
виміряні
при 25°C. [12] |
Для
підвищення
стабільності
в часі роботи
датчиків
водню автори
[12] в подальшому
пропонують
використати
TiB2 [13] в якості
омічного
контакту в гетероструктурі
діоду (Рис. 29-30).
|
|
Рис.29.
Схематичне
зображення HEMT
діодного
детектору
водню з
використанням
TiB2 омічного
контакту.
Пунктирна
лінія –область
двомірного
електронного
газу. [13]
|
Рис.30.
Порівняння
стабільності
в часі детекції
газових
детекторів
при
використанні
електроду з
і без TiB2. [13]
|
Страницы: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18 |