Реферат: Дефекты в кристаллах
2)
Фононы, фотоны и
другие квазичастицы, которые существуют в кристалле ограниченное время
Электроны и дырки
Фактически они не
оказывали влияние на энергетический спектр кристалла в невозбужденном
состоянии. Однако, в реальных условиях, при T¹0 (абсолютная температура), электроны
и дырки могут быть возбужденные в самой решетке, с одной стороны, а с другой
стороны могут инжектироваться (вводится) в нее из вне. Такие электроны и дырки
могут приводить с одной стороны к деформации самой решетки, а с другой стороны,
за счет взаимодействия с другими дефектами, нарушать энергетический спектр
кристалла.
Фотоны
Их нельзя рассматривать
как истинное несовершенство. Хотя фотоны и обладают определенной энергией и
импульсом, но если эта энергии не достаточно для генерации электронно –
дырочных пар, то в этом случае кристалл будет прозрачен для фотона, то есть он
без взаимодействия с материалом будет свободно проходить через него. Его
включают в классификацию потому, что они могут оказывать влияние на
энергетический спектр кристалла за счет взаимодействия с другими
несовершенствами, в частности с электронами и дырками.
Точечные
несовершенства (дефект)
При T¹0 может оказаться, что энергия частиц
в узлах кристаллической решетки окажется достаточной для перевода частицы из
узла в междоузлие. При чем каждой определенной температуре будет соответствовать
свой определенная концентрация таких точечных дефектов. Часть дефектов будет
образовываться за счет перевода частиц из узлов в междоузлие, а часть из них
будет рекомбинировать (уменьшение концентрации) за счет перехода из междоузлий
в узлы. За счет равенства потоков для каждой температуры будет соответствовать
своя концентрация точечных дефектов. Такой дефект, который представляет собой
совокупность междоузельного атома и оставшегося свободного узла), кансии) есть
дефект по Френкелю. Частица из приповерхностного слоя, за счет температуры,
может выйти на поверхность), поверхность является бесконечным стоком этих
частиц). Тогда в приповерхностном слое образуется один свободный узел
(вакансия). Этот свободный узел может быть занят более глубоко лежащим атомом,
что эквивалентно перемещению вакансий в глубь кристалла. Такие дефекты называют
дефектами по Шотки. Можно представить себе следующий механизм образования
дефектов. Частица с поверхности перемещается в глубь кристалла и в толще
кристалла появляется лишние междоузельные атомы без вакансий. Такие дефекты
называют антишоткиевские дефекты.
Образование точечных
дефектов
Существует три основных
механизма образования точечных дефектов в кристалле.
Закалка. Кристалл
нагревают до значительной температуры (повышенной), при этом каждой температуре
соответствует вполне определенная концентрация точечных дефектов (равновесная
концентрация). При каждой температуре устанавливается равновесная концентрация
точечных дефектов. Чем больше температура, тем больше концентрация точечных
дефектов. Если таким образом нагретый материал резко охладить, то в этом случае
эта избыточная точечных дефектов окажется замороженной, не соответствующей этой
низкой температуре. Таким образом, получают избыточную, по отношению к
равновесной концентрации точечных дефектов.
Воздействие на кристалл
внешними силами (полями). В этом случае к кристаллу подводится энергия,
достаточная для образования точечных дефектов.
Облучение кристалла
частицами высоких энергий. За счет внешнего облучения в кристалле возможны три
основных эффекта:
1) Упругое взаимодействие
частиц с решеткой.
2) Не упругое
взаимодействие (ионизация электронов в решетке) частиц с решеткой.
3) Все возможные ядерные
транс мутации (превращения).
Во 2-м и 3-м эффектах
всегда присутствует и первый эффект. Эти упругие взаимодействия сказываются
двояко: с одной стороны проявляются в виде упругих колебаний решетки, к
образованию структурных дефектов, с другой стороны. При этом энергия падающего
излучения должна превосходить пороговую энергию образования структурных
дефектов. Эта пороговая энергия обычно в 2 –3 раза превосходит энергию,
необходимую для образования такого структурного дефекта в адиабатических
условиях. В адиабатических условиях для кремния (Si) энергия адиабатического
образования составляет 10 эВ, пороговая энергия = 25 эВ. Для образования
вакансии в кремнии, необходимо чтобы энергия внешнего излучения как минимум
была больше 25 Эв, а не 10 эВ как для адиабатного процесса. Возможен вариант,
что при значительных энергиях падающего излучения одна частица (1 квант)
приводит к образованию не одного, а нескольких дефектов. Процесс может носить
каскадный характер.
Концентрация точечных
дефектов
Найдем концентрацию
дефектов по Френкелю.
Предположим, что в узлах
кристаллической решетки расположено N частиц. Из них n частиц перешли из узлов
в междоузлие. Пусть энергия образования дефектов по Френелю будет Eф. Тогда
вероятность того, что еще одна частица перейдет из узла в междоузлие будет
пропорциональна числу сидящих еще в узлах частиц (N-n), и больцмановскому
множителю  ,
то есть ~ . А общее число частиц перешедших
из узлов в междоузлие ~ . Найдем число
частиц переходящих из междоузлий в узлы (рекомбинирует). Это число
пропорционально n, и пропорционально числу свободных мест в узлах, а точнее
вероятности того, что частица наткнется на пустой узел, (то есть ~ ). ~ . Тогда суммарное изменение числа
частиц будет равна разности этих величин:
 .
С течением времени потоки
частиц из узлов в междоузлия и в обратном направлении станут, равны друг другу
то есть, устанавливается стационарное состояние. Так как число частиц в
междоузлиях много меньше общего числа узлов, то n можно пренебречь и  . Отсюда найдем
– концентрация дефектов
по Френкелю, где a и b – неизвестные коэффициенты.
Используя статистический подход, к концентрации дефектов по Френкелю и учтя,
что N’ – число междоузлий, мы можем найти концентрацию дефектов по Френкелю:  , где N –
число частиц, N’ – число междоузлий.
Процесс образования
дефектов по Френкелю является бимолекулярным процессом (2-х частичный процесс).
В то же время процесс образования дефектов по Шотки, является мономолекулярным
процессом.
Дефект по Шотки
представляет одну вакансию. Проведя аналогичные рассуждения, как и для
концентрации дефектов по Френкелю, получим концентрацию дефектов по Шотки в
следующем виде:  , где nш – концентрация дефектов
по Шотки, Eш – энергия образования дефектов по Шотки. Так как процесс
образования по Шотки является мономолекулярным, то в отличие от дефектов по
Френкелю, в знаменателе показателя экспоненты отсутствует 2. Процесс
образования, например дефектов по Френкелю, характерно для атомных кристаллов.
Для ионных кристаллов дефекты, например по Шотки, могут образовываться лишь
парами. Это происходит потому, что для сохранения электронейтральности ионного
кристалла необходимо, чтобы на поверхность выходили одновременно пары ионов
противоположного знака. То есть концентрация таких парных дефектов может быть
представлена в виде бимолекулярного процесса:  . Теперь можно найти отношение
концентраций дефектов по Френкелю к концентрации дефектов по Шотки:  ~ . Энергия образования парных
дефектов по Шотки Eр и энергия образования дефектов по Френкелю Eф имеют
величину порядка 1 эВ и могут отличаться друг от друга порядка нескольких
десятых эВ. KT для комнатных температур имеет значение порядка 0,03 эВ. Тогда  ~ . Отсюда следует, что для
конкретного кристалла будет преобладать один конкретный тип точечных дефектов.
Скорость перемещения
дефектов по кристаллу
Диффузия – есть процесс
перемещения частиц в кристаллической решетке на макроскопические расстояния
вследствие флуктуации (изменения) тепловой энергии. Если перемещающиеся частицы
являются частицы самой решетки, то речь идет о самодиффузии. Если в перемещении
участвуют частицы, являющиеся чужеродными, то речь идет о гетеродиффузии.
Перемещение этих частиц в решетке может осуществлятся несколькими механизмами:
- За счет движения
междоузельных атомов.
- За счет движения
вакансий.
- За счет взаимного
обмена мест междоузельных атомов и вакансий.
Страницы: 1, 2, 3 |
